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NI-2006HSX 

NI-2006HSX

使用可溶性陽極的鍍鎳工藝

NI-2006HSX 是氨基磺酸鹽型鍍鎳工藝，可產(chǎn)生低應力的，半光亮的，延展性的鎳鍍層。本工藝尤其適用于作為貴金屬和非貴金屬電鍍的底層。它專門用于可溶性陽極體系的高速電鍍設備。

設備

槽 襯橡膠，PVC，PVDC，PP或聚乙稀，襯里需用60g/L磷酸鈉在50℃瀝濾8小時，然后用水沖洗，再用5~10%硫酸溶液在60℃瀝濾8小時,最后用清水徹底沖洗。

整流器 標準直流電源整流器，配有伏特計，安培計和電流連續(xù)控制器。安培計應用安培-分鐘計。

過濾 連續(xù)過濾，每小時至少一個循環(huán)。泵和濾芯應使用惰性材料。接口用Nyflex管連接。不要用不銹鋼。

加熱器 用石英或玻璃加熱器，不要用不銹鋼。

攪拌 用陽極移動或溶液循環(huán)攪拌。不要用空氣攪拌。

陽極 高純度的S陽極，用電解去極化或鎳柱陽極。陽極袋應浸在含5%（v/v）硫酸的沸騰的水溶液中5~15分鐘，然后徹底沖洗干凈。

攪拌 盡可能快

電流密度 A/dm² 根據(jù)應用和設備不同而不同，最大可達25

效率 mg/Amin 17.7 17.5~18.0

95%以上

鍍1微米所需時間

5   A/dm2 秒 60 50~70

20  A/dm2 秒 15 13~17

分析

試劑

混合指示劑: 溶解1g溴代百里酚鈦藍和5g溴甲酚紫于50mL乙醇中。

步驟

1. 準確移取5mL試樣于250mL錐形瓶中。

2. 加入5滴混合指示劑。
注：此時溶液應為藍色，若溶液為綠色，慢慢加入0.1N NaOH 直至溶液為藍色。

3. 加入約20g甘露醇，搖晃直至形成均勻的漿狀物。

計算

低應力電鍍鎳 氨基磺酸鎳 啞光鎳 LECTRONIC 1003 HSX、LECTRONIC 1003、LECTRONIC 1003M、LECTRO-NIC OXR-1100、LECTRO-NIC OXR-1300、ENPLATE LDS AG 600

聲明

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